当研究所では蒸着材料メーカーとして、自社内に保有の蒸着装置を用いて様々な材料の蒸着実験を繰り返しおこなっています。
その成膜技術を生かして、受託成膜加工のご依頼にもお応えしております。
量産ではないが成膜加工ができないか？この素材に成膜できないか？などお気軽にお問い合わせください。
受託成膜加工サービスについて
小ロット・試作加工を中心に
スピーディーな対応が可能です
スピーディーな対応が可能です
その理由は！
生産シフトラインに組み込まれた蒸着装置ではなく
材料評価用の蒸着装置を使用しているからです。
材料評価用の蒸着装置を使用しているからです。
装置スケジュールの空きによってはご依頼から3日以内での加工も可能です。
※加工条件などによります。
※加工条件などによります。
真空蒸着装置
| 装置形式 | シンクロン ＢＭＣ800 |
|---|---|
| 方式 | ＥＢ（電子ビーム）蒸着、抵抗加熱蒸着×2 |
| 排気系 | ドライポンプ、クライオポンプ×2 |
| 可能な成膜 | 単層膜、多層膜 |
| 対象材料 | 金属、金属酸化物、金属フッ化物、その他化合物 |
| 成膜可能な基板種類 | ガラス、金属、セラミックス、樹脂、フィルム |
| 成膜可能な基板サイズ | φ30mm、φ50mm、φ75mm、φ100mm、φ200mm、φ300mm、□10～200mmx10～300mm |
※マスク蒸着も可能です。ご要望に応じメタルマスクを製作いたします。
その他、サイズについてもお問い合わせください。
成膜加工はクリーンブース内での一貫作業
蒸着に至るまでの装置内への基板セッティングから取出し、梱包までの作業は全てクリーンブース（クラス1000）内にて専任技術者が行います。
オールクリーンな排気系により、デバイス用の蒸着にも対応可能です。
常に安定した環境下での作業により、継続した実験試作の成膜案件をご依頼いただいた場合でも環境変化による品質への悪影響のご心配はいりません。
生産ラインに組み込まれていない装置である利点を生かし、
クリーンブース内での立ち会いも可能です。
多種多様なサイズの基板に対応できるように
複数の基板ドーム・保持ホルダをご用意しております。
複数の基板ドーム・保持ホルダをご用意しております。
EB蒸着・抵抗加熱蒸着法以外の
さまざまな成膜法にも対応が可能です
さまざまな成膜法にも対応が可能です
薄膜成膜には多種多様な方法がありますが
真空蒸着法（EB蒸着・抵抗加熱蒸着）以外の成膜方法に関しても
総合的にプロデュース致します。
真空蒸着法（EB蒸着・抵抗加熱蒸着）以外の成膜方法に関しても
総合的にプロデュース致します。
以下の様な加工・分析をお探しではありませんか？
当社に是非ご相談ください
蒸着方式
IAD（イオンアシスト）蒸着
IP（イオンプレーティング）蒸着
フィルム蒸着（ロールtoロール）
スパッタリング蒸着
CVD蒸着
IP（イオンプレーティング）蒸着
フィルム蒸着（ロールtoロール）
スパッタリング蒸着
CVD蒸着
分 析
分光測定（屈折率・透過率・反射率）
構造分析
構造分析
加 工
パターン成膜（フォトリソ工程）
ダイシング
ダイシング